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緊湊型臺式光刻系統 重新定義無掩模光刻技術 LITHO MASKLESS 是一款緊湊型臺式光刻系統利用基于 UV LED 的 DLP 引擎實現無掩模圖案化。設計簡潔，精準它將微加工技術從潔凈室和任何研究或教育空間中帶出來。

全自動步進重復式激光干涉光刻機 VIL 1000納米光刻系統具有全自動光路重構、動態鎖相、高精度步進重復曝光等強大功 能。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后，無需任何手動設置或調整，我們的自動化系統可以在2 cm×2 cm的曝光區域內 （曝光區域還可定制其他尺寸及形狀）實現納米尺度的一維光柵或二維陣列的加工。所制 備納米結構的周期涵蓋240 nm到1500 nm的區間范圍，

VIL1000激光干涉光刻機 VIL系列納米圖形系統（激光干涉光刻機）具有快速可重構光束傳輸、主動圖形穩定和精確樣品定位等強大功能。該系統可以通過使用標準2cm×2cm正方形或用戶定義形狀的圖案場進行重復曝光，在8英寸大面積上產生各種納米結構，例如1D光柵線和2D柱/孔圖案，周期從240 nm到1500 nm。